Qué es Modelo de defectos puntuales (PDM)
El Modelo de Defectos Puntuales (PDM) es un enfoque teórico utilizado en la física del estado sólido y la ingeniería de materiales. Este modelo describe cómo las imperfecciones o defectos en la estructura cristalina afectan las propiedades mecánicas y eléctricas de los materiales, siendo fundamental en el estudio de semiconductores.
¿Qué significa el modelo de defectos puntuales (PDM)?
Un modelo de defectos puntuales (PDM) se refiere a un modelo compatible con el movimiento de defectos puntuales en un campo eléctrico asociado. Se pretende interpretar el comportamiento de expansión de una película pasiva sobre una superficie metálica.
El PDM podría ser un modelo estable que describe la expansión y ruptura de las películas pasivas en términos de flujo de masa y carga a través de los defectos de propósito a través de la capa de barrera defectuosa semiconductora de la película pasiva, porque las predicciones del modelo se ven afectadas por la leyes naturales pertinentes.
industriapedia explica el modelo de defectos puntuales (PDM)
El modelo de defectos puntuales (PDM) establece que la disolución del metal es el resultado de los cationes de flujo en la interfaz de la película/solución, las vacantes de metal de escritura o los agujeros de metal en el borde del metal/película. Estos agujeros de metal tienden a sumergirse en la mayor parte del metal y por lo tanto a desaparecer. Si las tasas de ensamblaje de este orificio son mayores que su tasa de inmersión, los orificios se acumulan en la superficie del metal formando vacíos. Dado que el vacío crece hasta un tamaño esencial, la película pasiva colapsa en el vacío, lo que lleva a una corrosión acelerada internamente y, por lo tanto, a la formación de picaduras.
El PDM ha pasado por 3 generaciones, la primaria El modelo de generación (PDM-I), desarrollado a principios de los años ochenta, asumía que la película pasiva era una capa de compuesto químico defectuosa que contenía vacantes de iones y vacantes de elementos químicos que se generaban y eliminaban en las interfaces metal/película y película/solución.
El modelo de generación II (PDM-II) incorporó la estructura bicapa de la película, que comprende una capa de barrera defectuosa o compuesta binaria adyacente al metal y una capa externa que se forma por precipitación de la tela a partir de la reacción de los cationes transmitidos con especies dentro el entorno (que consiste en agua, carbonato, bisulfuro, etc.), introdujo intersticiales metálicos en el conjunto de defectos, reconoció la disolución de la capa de barrera y reconoció el requisito de clasificar las reacciones dependiendo de si son o no conservadores o no conservadores de celosía, sin embargo, se supuso que la gestión de la corriente pasiva residía solo dentro de la capa de barrera.
El modelo de generación III (PDM-III) amplía la especulación a aquellos casos (p. ej., metales de válvulas) en los que la capa exterior es tan resistiva que controla la resistencia eléctrica de la interfaz y, por lo tanto, la velocidad de corrosión.
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