Qué es Implantación de iones
La implantación de iones es un proceso de modificación superficial de materiales, donde iones de un elemento específico se aceleran y se introducen en un sustrato. Esta técnica se utiliza en la fabricación de semiconductores y mejora propiedades como dureza, conductividad eléctrica y resistencia a la corrosión.
¿Qué significa la implantación de iones?
La implantación de iones es un proceso de ingeniería de materiales mediante el cual los iones de un material se aceleran en un campo eléctrico y se impactan en otro material sólido. Este proceso puede mejorar las propiedades de un material, incluida la dureza y la resistencia al desgaste, la resistencia al ataque químico y la reducción de la fricción.
La implantación de iones es similar a un proceso de recubrimiento, pero no implica la adición de una capa en la superficie. Se usa más comúnmente en la fabricación de dispositivos semiconductores y en la industria del acabado de metales.
Este proceso también se denomina dosificación.
industriapedia explica la implantación de iones
El equipo de implantación de iones generalmente requiere una fuente de iones, donde se producen los iones del elemento deseado, un acelerador, donde los iones se aceleran electrostáticamente a una alta energía (acelerando los iones a velocidades de alrededor de 103 m/s), y una cámara objetivo, donde los iones inciden sobre un objetivo, que es el material a implantar. Así, la implantación de iones es un caso especial de radiación de partículas. Si bien el proceso no requiere que la pieza de trabajo se caliente directamente, la mayoría de los procesos de haz de iones operan entre 300° y 400°F (150°C y 200°C).
La profundidad típica de penetración de iones es una fracción de una micra. Para restaurar esta región de la superficie a un estado cristalino bien ordenado y permitir que los iones implantados entren en sitios de sustitución en la estructura cristalina, el metal objetivo debe someterse a un proceso de recocido, que generalmente involucra el calentamiento del metal objetivo para una temperatura elevada durante un período de tiempo adecuado.
Una ventaja obvia de la implantación es que se puede realizar a temperaturas relativamente bajas, lo que significa que las capas dopadas se pueden implantar sin perturbar las regiones previamente difundidas. Esto reduce el riesgo de propagación lateral.
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