La deposición al vacío es una técnica utilizada para crear capas delgadas de material en superficies al evaporar un sólido en un ambiente de bajo presión. Este proceso permite la formación de películas delgadas con alta pureza y uniformidad, siendo ampliamente empleada en la fabricación de semiconductores y revestimientos ópticos.
¿Qué significa la deposición al vacío?
La deposición al vacío se refiere a una familia de procesos utilizados para depositar capas de material átomo por átomo o molécula por molécula sobre una superficie sólida.
Esta técnica consiste en depositar un espesor de película deseado, incluso en el rango de nanómetros, en el ambiente limpio de alto vacío. Es ampliamente utilizado para la preparación de películas de materiales inorgánicos a escala industrial. Este método se usa a menudo para aplicar recubrimientos resistentes a la corrosión sobre sustratos.
industriapedia explica la deposición al vacío
La deposición al vacío es una técnica que se utiliza para depositar capas de material sobre sustratos en condiciones de vacío. Puede haber múltiples capas de diferentes materiales con espesores que pueden variar desde menos de 1 nm hasta varias micras.
Esta técnica es particularmente útil para la producción de recubrimientos, ya que tiene un impacto ambiental muy reducido y una gran versatilidad. Las ventajas de esta técnica son:
- Muchos dispositivos empleados para la generación de vapores funcionan solo en el vacío.
- La mayoría de los materiales se oxidarían en atmósferas convencionales.
- Los procesos de deposición al vacío son ecológicamente muy limpios.
- A presión atmosférica, las moléculas de vapor libre promedio son muy cortas (menos de un milímetro) y, por lo tanto, no podrían llegar a los sustratos.
Esta técnica se puede subdividir en dos familias principales:
- PVD (Physical Vapor Deposition) - Los vapores de condensación que forman la película se obtienen por medios físicos (calentamiento, pulverización catódica).
- CVD (Deposición química de vapor) - Los vapores se obtienen por medio de la disociación de especies gaseosas adecuadas.
Cada una de estas dos categorías incluye muchas técnicas diferentes. Entre las técnicas de PVD se encuentran:
- Evaporación por pistola electrónica
- Evaporación por arco catódico
- pulverización catódica
- Epitaxia de haz molecular
Entre las técnicas CVD se encuentran:
- CVD térmico (convencional)
- Plasma activado (PECVD)
El entorno de vacío sirve para los siguientes propósitos:
- Reducción de la densidad de partículas
- Proporcionar un entorno de plasma de baja presión
- Proporcionar un medio para controlar la composición de gases y vapores.
- Proporcionar un medio para el control del flujo másico en la cámara de procesamiento.
Las deposiciones al vacío se utilizan generalmente para mejorar la dureza, la resistencia al desgaste y la resistencia a la oxidación. Por lo tanto, dichos recubrimientos se utilizan en una amplia gama de aplicaciones, tales como:
- Conducción eléctrica
- Dispositivos semiconductores
- Células solares
- Películas ópticas
- Recubrimientos reflectantes
- Conservación y generación de energía
- Películas magnéticas
- Barreras de difusión
- Protección contra la corrosión
- Aplicaciones automotrices